Kenichiro Mizohata

Henkilö

    Tieteenalat

  • 114 Fysiikka - Materiaalifysiikka, Ionisuihkuanalyysi

Viimeisimmät julkaisut

  1. Diamine Adduct of Cobalt(II) Chloride as a Precursor for Atomic Layer Deposition of Stoichiometric Cobalt(II) Oxide and Reduction Thereof to Cobalt Metal Thin Films

    Väyrynen, K., Hatanpää, T., Mattinen, M., Heikkilä, M., Mizohata, K., Meinander, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M. 22 toukokuuta 2018 julkaisussa : Chemistry of Materials. 30, 10, s. 3499-3507 9 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

  2. Atomic layer deposition of crystalline molybdenum oxide thin films and phase control by post-deposition annealing

    Mattinen, M., King, P. J., Khriachtchev, L., Heikkilä, M. J., Fleming, B., Rushworth, S., Mizohata, K., Meinander, K., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M. 11 toukokuuta 2018 julkaisussa : Materials today chemistry. 9, s. 17-27 11 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

  3. Atomic Layer Deposition of Rhenium Disulfide

    Hämäläinen, J., Mattinen, M., Mizohata, K., Meinander, K., Vehkamäki, M., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M. 2018 julkaisussa : Advanced Materials. 30, 24, s. 1703622 6 Sivumäärä

    Tutkimustuotos: ArtikkelijulkaisuArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

Näytä kaikki (59) »

ID: 45897