Kenichiro Mizohata

Henkilö

    Tieteenalat

  • 114 Fysiikka - Materiaalifysiikka, Ionisuihkuanalyysi

Viimeisimmät julkaisut

  1. Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Low-Resistivity Copper Thin Films Using Cu(dmap)(2) and Tertiary Butyl Hydrazine

    Väyrynen, K., Mizohata, K., Räisänen, J., Peeters, D., Devi, A., Ritala, M. & Leskelä, M. 8 elokuuta 2017 julkaisussa : Chemistry of Materials. 29, 15, s. 6502-6510 9 Sivumäärä

    Julkaisu: ArtikkelijulkaisuA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

  2. Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Cobalt Oxide as an Effective Catalyst for Photoelectrochemical Water-Splitting Devices

    Kim, J., Iivonen, T., Hämäläinen, J., Kemell, M., Meinander, K., Mizohata, K., Wang, L., Räisänen, J., Beranek, R., Leskelä, M. & Devi, A. 25 heinäkuuta 2017 julkaisussa : Chemistry of Materials. 29, 14, s. 5796-5805 10 Sivumäärä

    Julkaisu: ArtikkelijulkaisuA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

  3. Thermal Atomic Layer Deposition of Continuous and Highly Conducting Gold Thin Films

    Mäkelä, M. I., Hatanpää, T. T., Mizohata, K., Räisänen, J. A., Ritala, M. K. & Leskelä, M. A. 27 kesäkuuta 2017 julkaisussa : Chemistry of Materials. 29, 14, s. 6130–6136 7 Sivumäärä

    Julkaisu: ArtikkelijulkaisuA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Näytä kaikki (51) »

ID: 45897