Nils Kristoffer Meinander

Henkilö

Viimeisimmät julkaisut

  1. Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Cobalt Oxide as an Effective Catalyst for Photoelectrochemical Water-Splitting Devices

    Kim, J., Iivonen, T., Hämäläinen, J., Kemell, M., Meinander, K., Mizohata, K., Wang, L., Räisänen, J., Beranek, R., Leskelä, M. & Devi, A. 25 heinäkuuta 2017 julkaisussa : Chemistry of Materials. 29, 14, s. 5796-5805 10 Sivumäärä

    Julkaisu: ArtikkelijulkaisuA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

  2. Atomic layer deposition of tin oxide thin films from bis[bis(trimethylsilyl)amino]tin(II) with ozone and water

    Tupala, J. O., Kemell, M. L., Mattinen, M. J., Meinander, N. K., Seppälä, S. S., Hatanpää, T. T., Räisänen, J. A., Ritala, M. K. & Leskelä, M. A. 30 toukokuuta 2017 julkaisussa : Journal of Vacuum Science Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 35, 4, 8 Sivumäärä, 041506

    Julkaisu: ArtikkelijulkaisuA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

  3. Studies on Thermal Atomic Layer Deposition of Silver Thin Films

    Mäkelä, M., Hatanpää, T., Mizohata, K., Meinander, K., Niinistö, J., Räisänen, J., Ritala, M. & Leskelä, M. 14 maaliskuuta 2017 julkaisussa : Chemistry of Materials. 29, 5, s. 2040-2045 6 Sivumäärä

    Julkaisu: ArtikkelijulkaisuA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Näytä kaikki (25) »

ID: 85599